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硬X射線納米探針線站
文章來(lái)源:   |  發(fā)布時(shí)間:2019-03-28  |  【打印】 【關(guān)閉】  |  瀏覽:
 

 X射線納米探針線站】  

  

  硬X射線納米探針線站是HEPS光源三條超長(zhǎng)的光束線站之一,其最大的特點(diǎn)是利用HEPS光源極低發(fā)射度的特性,將硬X射線聚焦至納米尺度形成超高亮度的光探針,用于開展高分辨的原位體相表征研究。結(jié)合X射線成像、衍射、譜學(xué)以及電鏡成像等多種實(shí)驗(yàn)技術(shù)的多模態(tài)表征,在納米尺度甚至原子尺度上解析材料二維或三維的結(jié)構(gòu)、應(yīng)變、化學(xué)狀態(tài)以及動(dòng)力學(xué)效應(yīng)等關(guān)鍵信息。該線站可廣泛適用于材料、生命、物理、化學(xué)、環(huán)境、半導(dǎo)體、藥物,文化遺產(chǎn)以及行星科學(xué)等領(lǐng)域的前沿科學(xué)研究。

  主要的實(shí)驗(yàn)方法有高分辨熒光譜成像(n-XRF)、掃描相干衍射成像(Ptychography)、納米全息相干成像(Nano-holography)、納衍射(n-XRD)、近邊吸收譜(n-XANES)和在線掃描電鏡成像(SEM)等。

  本線站主要參數(shù)為:

  能量范圍:5-30keV

  能量分辨率:10-410-5

  最小聚焦光斑:<10nm (高分辨模式);<50(原位模式)

  光通量:109~1010 phs/s@10keV(高分辨模式);1010~1011phs/s@10keV(原位模式)

  聚焦光斑工作距離: 1~2mm(高分辨模式);40~50mm(原位模式)

  樣品尺寸:    亞μm ~ mm尺度

       樣品信息(結(jié)構(gòu)、元素、價(jià)態(tài)等)成像分辨率: ~ 納米尺度

   

 

 負(fù)責(zé)人:常廣才(010-88236710,changgc@ihep.ac.cn,微信:18612610050 

    

 

  

  硬X射線納米探針線站光學(xué)布局俯視圖  

 

 
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