研究員
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姜曉明


  • 類別: 研究員
  • 研究方向: 同步輻射技術(shù)及方法研究
  • 學(xué)歷: 研究生畢業(yè)
  • Email: jiangxm@ihep.ac.cn
  • 地址: 北京石景山區(qū)玉泉路19號(hào)(乙院)
  • 郵編: 100049
簡(jiǎn)歷介紹

1988年畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué),獲理學(xué)、博士學(xué)位。1988年到中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所做博士后。1995年晉升為高能物理研究所研究員。

在國(guó)內(nèi)第一次實(shí)驗(yàn)測(cè)量了由我國(guó)科學(xué)家黃昆先生命名的X射線黃昆漫散射,研究輻照晶體中的晶體缺陷組態(tài)和分布;系統(tǒng)研究了非晶周期多層膜材料的熱穩(wěn)定性,成功解釋了一直困擾多層膜應(yīng)用過(guò)程中的熱膨脹問(wèn)題,在非晶多層膜的X射線非鏡面散射(漫散射)的研究中,取得了國(guó)際領(lǐng)先水平的工作;完成了北京同步輻射裝置4W1C光束線的物理設(shè)計(jì)和調(diào)試驗(yàn)收;利用掠入射X射線衍射/小角散射等實(shí)驗(yàn)技術(shù)在半導(dǎo)體GeSi量子點(diǎn)的微結(jié)構(gòu)表征中取得重要研究成果。近期開(kāi)展了同步輻射X射線相位襯度成像技術(shù)的醫(yī)學(xué)應(yīng)用研究、X射線自由電子激光關(guān)鍵技術(shù)及設(shè)備研制等方面的研究工作。

承擔(dān)科研項(xiàng)目情況
代表論著(中文)
代表論著(英文)
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