學(xué)術(shù)活動(dòng)
【6.1】高能所科技創(chuàng)新論壇(319)HEPS注入引出系統(tǒng)設(shè)計(jì)
文章來(lái)源:  2020-06-01
】 【】 【

高能所創(chuàng)新論壇第319期
高能同步輻射光源(HEPS)系列講座(加速器)
報(bào)告題目:HEPS注入引出系統(tǒng)設(shè)計(jì)
主講人:陳錦暉 研究員
主持人:何平 研究員
時(shí)間:2020年6月1日上午10:00
地點(diǎn):主樓214會(huì)議室(CSNS園區(qū)A1-301會(huì)議室同步視頻)

報(bào)告簡(jiǎn)介:
HEPS作為第四代同步輻射光源,束流發(fā)射度已經(jīng)接近衍射極限。HEPS儲(chǔ)存環(huán)MBA lattice結(jié)構(gòu)下,機(jī)器動(dòng)力學(xué)孔徑很小,常規(guī)的注入方案已經(jīng)無(wú)法滿(mǎn)足要求,提出了一種基于快kicker的在軸置換注入系統(tǒng)??烀}沖kicker和薄切割板Lambertson磁鐵是注入引出系統(tǒng)的關(guān)鍵點(diǎn)和難點(diǎn)。為了配合儲(chǔ)存環(huán)大電荷量模式下的恒流注入需求,要求增強(qiáng)器可兼做6GeV的累積環(huán)使用,通過(guò)一個(gè)局部脈沖凸軌注入實(shí)現(xiàn)束流的累積,最多可同時(shí)累積10個(gè)束團(tuán)。因此,HEPS增強(qiáng)器在常規(guī)的低能注入、高能引出基礎(chǔ)上增加了一個(gè)高能回注系統(tǒng),相應(yīng)的kicker和Lambertson磁鐵設(shè)計(jì)也具有一定難度。

主講人介紹:
陳錦暉,正高級(jí)工程師,2006年畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)院大學(xué),獲得博士學(xué)位,1999年至今在高能所加速器中心,長(zhǎng)期從事加速器注入引出技術(shù)的研究,曾參加BEPCII注入系統(tǒng)設(shè)計(jì)、研制、運(yùn)行和改進(jìn)工作,現(xiàn)擔(dān)任HEPS(HEPS-TF)和CEPC注入引出系統(tǒng)負(fù)責(zé)人。

高能所科研計(jì)劃處、黨政聯(lián)合辦、人力資源處
2020年5月22日


附件下載:

地址:北京市918信箱 郵編:100049 電話(huà):86-10-88235008 Email:ihep@ihep.ac.cn
中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所 備案序號(hào):京ICP備05002790號(hào)-1 文保網(wǎng)安備案號(hào): 110402500050